產(chǎn)品簡介

NK-300系列微量水露點儀，測HF、HCL水分TDLAS激光微量水露點分析儀，可選用TDLAS激光原理，適用于分析HFHCLNH3等各類腐蝕性氣體中微量水分含量

NK-300系列系列測HF、HCL水分TDLAS激光微量水露點分析儀，是我司基于可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)的高精度、低溫漂微量水分析儀，適用于分析HF\HCL\NH3等各類腐蝕性氣體中微量水分含量。

典型行業(yè)應(yīng)用：
>    工業(yè)氣體
>    多晶硅生產(chǎn)
>    燒堿行業(yè)氯氣微量水分析
>    LNG、CNG
>    壓縮空氣
>    惰性氣體保護

技術(shù)參數(shù)：

>    分析原理：薄膜電容、激光、電解法

>    量程范圍：

—薄膜電容：-80℃\-100℃\-110℃—20℃、-60℃—60℃

—電 解 法：0-2000ppm(中間量程可定制)

—激    光：0-100ppm、0-2000ppm

>    精    度：

—薄膜電容：≤±2℃

—電 解 法：≤±5%F.S

—激    光：≤±1%F.S

>    重 復 性：

—薄膜電容：≤±1.5℃

—電 解 法：≤±0.5％F.S

—激    光：≤±0.5%F.S

>    穩(wěn) 定 性：

—薄膜電容：≤±2%F.S/7d

—電 解 法：≤±2%F.S/7d

—激    光：≤±1%F.S/7d

>    響應(yīng)時間：

—薄膜電容：T90≤60秒

—電 解 法：T90≤10min

—激    光：T90≤15S

注：視取樣距離

>    工作環(huán)境：溫度－25℃～＋55℃；濕度≤90%RH（無結(jié)露）

>    樣氣壓力：0.05 MPa≤入口壓力≤0.1MPa(出氣口必須為常壓)

>    樣氣流量：

—薄膜電容、激光：1500±2500ml/min

—電解法：100ml/min

>    工作電源：220VAC±10%，50Hz±5%；DC 24V可選

>    數(shù)據(jù)記錄：3000條

>    輸出方式：4～20mA、無源繼電器、RS485；可與計算機實現(xiàn)通訊

>    顯示單位：

—薄膜電容：露點溫度、ppm、mg/m3

—電解法、激光：ppm

>    操作方式：按鍵操作

>    外形尺寸：

—壁掛式：400W*500Hmm、500W*800Hmm

—防護箱(不銹鋼)：500W*600H*220Dmm、500W*800H*220Dmm

—防護箱(碳鋼)：500W*700H*220Dmm、600W*900H*220Dmm

—不銹鋼室外柜1200W*600H*450Dmm、1600W*600H*450Dmm

>    防爆等級：ExdIICT6

>    預 處 理：視使用形式，可選配

注：本頁價格不代表真實價格（根據(jù)量程、使用形式、是否防爆、是否帶預處理等有變化），準確價格和產(chǎn)品參數(shù)請直接聯(lián)系廠家技術(shù)溝通后方可確定。諾科儀器測HF、HCL水分TDLAS激光微量水露點分析儀生產(chǎn)廠家，從業(yè)近20年，熟悉行業(yè)工藝工況，業(yè)績多價可談。